为了形成高水平的研究开发中心，对科研队伍和布局进行了积极调整，先后成立了一批国家重点实验室、开放实验室、国家工程研究中心和产学研组织。由于拥有的仪器设备和设施，聚集了高水平的科技人才，又有较为灵活的运行机制，正在为激光科技成果转化、创造自主知识产权和促进激光技术产业化发挥重要作用。
在多项战略性科技计划中，激光技术受到重视。“863”计划七大领域中有激光技术和光电子技术（包括用于信息领域的激光技术），1995年又增列了“惯性约束聚变”主题。预研光电子技术作为跨部门项目正式立项，其中也包括激光技术。国家“六五”和“七五”攻关计划，激光技术被列为重大项目。此外，国家自然科学1986-1998年间年平均资 助27.6个激光领域项目。这些由国家支持的计划都经过了充分论证和严格挑选，对国民经济和建设具有重要意义。许多激光科研单位也主动进行组织体制和运行机制的改革，面向市场、鼓励创新、大力促进科技成果向商品转化，取得了可喜成绩。
光纤激光打标机
关于避免结露
防止激光晶体及LD 腔面结露
禁止激光器系统在高湿度环境下工作，客户应确保环境湿度小于60%。当激光晶体温度与环境温度温差过大（大于10 度），将可能导致激光晶体结露，结露将导致激光器系统功率下降或损坏。因此当环境温度远大于水箱设定温度（大于10 度以上）时，三轴旋转光纤激光打标机，严禁激光器系统处于单开水冷机而激光头不工作的状态。在此状态下，建议采用以下步骤进行操作：
在开机时，先打开冷水机，待制冷机温度显示低于30℃，不锈钢光纤激光打标机，启动电源并将电流缓慢调节至10A 左右；待制冷机温度显示在工作温度（18℃左右）时，再缓慢的将电流调节至工作电流（35A 左右）。
在关机时，先将电流缓慢的降至10A 左右并停止电源输出，关闭电源，再尽快关水冷机。如果不在大电流处工作，可以适当调高制冷机制冷温度（但不得高于25℃）务必在规定的环境内使用激光器系统设备（南方操作环境应加装空调）。
由于半导体泵浦的转换，模式好，更易聚焦出高能量的更小面积的光点，标记同样的物体时，台式光纤激光打标机，其所需的外部能量会更小。同时其产生的废热也远远小于灯泵浦激光器，常州光纤激光打标机，决定了其不需要灯泵浦激光器那样庞大的冷却系统。所以半导体泵浦的激光器系统的功耗比灯泵浦小得多。
一个50W的灯泵浦激光打标机的功耗在6KW左右，而一个50W半导体激光标记机的功耗只在2KW左右，以三年为例，一天工作24小时，一个月工作28天，一度工业用电1.1元，光耗电一项，一台半导体激光器就比一台灯泵浦激光器节省（6-2）KW*24小时*28天*12月*3年*1.1/度=10.645万 元！
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